您当前的位置:首页 > 博客教程

啥是光刻机它有啥作用

时间:2024-10-20 05:44 阅读数:9228人阅读

⊙^⊙ *** 次数:1999998 已用完,请联系开发者***

˙▂˙ 新毅东申请光刻机系统镜头地图复用方法专利,实现镜头地图在不同...提供了一种光刻机系统的镜头地图复用方法。该光刻机系统的镜头地图复用方法,包括:创建镜头地图基类,所述镜头地图基类包含基于硅片信息和镜头基础信息的场景公共的属性和功能;确定具体应用场景;以及,基于所述具体应用场景通过继承镜头地图基类来实例化镜头地图应用类。这样...

?url=http%3A%2F%2Fdingyue.ws.126.net%2F2023%2F0629%2F7aa144dcj00rx0399001cc000hs00a0m.jpg&thumbnail=660x2147483647&quality=80&type=jpg

涨停揭秘 | 永新光学首板涨停,封板资金92.62万元10月18日,永新光学收盘首板涨停,截至当日收盘,永新光学报72.93元/股,成交额1.64亿元,总市值81.06亿元,封板资金92.62万元。涨停原因:光刻机镜头、AI 眼镜及光学显微镜相关:1. 22 年 1 月 29 日公告称公司功能性光学镜头及元件扩产项目于 2020 年 11 月达产,专业成像镜头范围广,包...

?url=http%3A%2F%2Fdingyue.ws.126.net%2F2022%2F1031%2F4d0b30c3j00rkl3ez0036c000u000hyg.jpg&thumbnail=660x2147483647&quality=80&type=jpg

广信材料:公司未涉及光刻机制造业务,主要产品为各类光刻胶及专用涂料请问贵公司在光刻机制造领域,处于什么位置?是消耗品供应,还是核心技术端?公司回答表示:经了解,截至目前公司未涉及相关设备业务。公司主要产品主要为各类PCB光刻 胶、显示光刻 胶、半导体光刻 胶等光刻 胶及消费电子涂料、乘用车涂料、功能膜材及金属包装涂料等专用涂料,主...

?url=http%3A%2F%2Fdingyue.ws.126.net%2F2023%2F0829%2F7a0ce171j00s05ft2002uc000wk00mem.jpg&thumbnail=660x2147483647&quality=80&type=jpg

阿斯麦新光刻机初次曝光 “双层巴士”即将开赴生产前线!财联社2月29日讯(编辑 马兰)高数值孔径EUV光刻机是全球芯片制造商都在等待的下一代尖端半导体制造设备,而这一有双层巴士那么大的机器终于迎来了“初次曝光”。 据荷兰阿斯麦公司周三证实,新型光刻机已经首次将光线投射到晶圆之上,完成了基本功能验证,公司下一步将继续测试...

7ce088e87e694782934bcb36ab054f94.jpeg

日媒称佳能光刻机业务东山再起 挑战阿斯麦霸主地位佳能公司在半导体光刻机业务上已展现出复苏的强劲势头。尽管过去在与荷兰阿斯麦和尼康的竞争中,佳能未能成功生产出ArF浸没式光刻机和EUV(极紫外)光刻机,但近期他们通过推出纳米压印光刻装置(nanoimprint lithography),成功夺回了在尖端封装用途市场的主导地位。这一技术突破...

7afdc208a6d345059bed27c932c7806c.jpeg

维普半导体:光刻机配套IRIS机台交付国内某光刻机客户维普半导体今日官微消息,7月1日,维普光刻机配套IRIS颗粒检测产品累计第5套顺利发机,交付国内某光刻机客户。IRIS模块-即集成掩模检测系统,是光刻机中的一个重要组成部分。其主要作用是对掩模版玻璃面、保护膜面颗粒进行检测,消除因颗粒污染导致光刻后批量Wafer的失效,从而保...

7879447.jpg

沃格光电:公司玻璃基光刻技术与半导体光刻机技术原理类似金融界3月1日消息,有投资者在互动平台向沃格光电提问:公司玻璃基光刻技术,和大家说的光刻机光刻技术是否类似?公司回答表示:公司拥有的玻璃基光刻技术,其主要工艺是在玻璃基材上进行镀铜或者其他材料、曝光、显影、蚀刻后,得到具备相关功能的电路(如触控感应电路,指纹感应电...

2020052023591813.jpg

第1143章 蓝牙功能!继续捣鼓光刻机,眼不见心不烦。 至于刘北,无视乔蒂幽怨的眼神,转头就将陈顶天叫到一边。 “刘总,有什么事?” 陈顶天被刘北神神秘秘的动作... 咱们的微米手机功能将多加一项蓝牙电话功能。” “啊?蓝牙电话?” 陈顶天一愣,狐疑地看着刘北。 后者解释道:“这蓝牙电话顾名思义,就是...

(ˉ▽ˉ;) ?url=http%3A%2F%2Fdingyue.ws.126.net%2FuUlAJb4VbSGIHX4ur5jg3zhmXMPnKlLVP5zKgl8fyzI7f1655276929927.jpeg&thumbnail=660x2147483647&quality=80&type=jpg

(°ο°) 半导体光掩膜供不应求 国内掩膜版行业景气有望持续掩模版是光刻工艺中的关键耗材,对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。在集成电路领域,光掩模的功能类似于传统相机的“底片”,在光刻机、光刻胶的配合下,将光掩模上已设计好的图案,通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上,进行图像复制,从而实现批量生产。民生证券...

?url=http%3A%2F%2Fdingyue.ws.126.net%2FX3V3LwKQ4g740nWCD06aIux9QSzulbF6YNmFXaLqN1cIs1656068377646.jpeg&thumbnail=660x2147483647&quality=80&type=jpg

(°ο°) 至纯科技:已实现背面蚀刻功能,工艺指标可对标国际大厂金融界11月10日消息,至纯科技在互动平台表示,Backside clean(晶背清洗)工艺是在芯片制造工艺中相当重要的湿法工艺,其功能是将晶圆背面的金属污染物清除,把颗粒洗净,让晶圆以最佳状态进入光刻机。目前公司已实现 Backside etch(背面蚀刻)功能,达到客户的验收标准。通过背面单...

v2-c3f76115b77a75b3dcf36406dd40b84b_b.jpg

天行加速器部分文章、数据、图片来自互联网,一切版权均归源网站或源作者所有。

如果侵犯了你的权益请来信告知删除。邮箱:xxxxxxx@qq.com